DPC基板 (直接电镀铜) )
1:溅射靶材
2:结合力
3:电镀填孔
4:激光加工
5:铜面对应封装工艺
1:不同靶材有不同的处理工艺,对应不同蚀刻加工工艺2:PVD溅射设备的选用,溅射加工参数,溅射厚度选取等3:可实现纵横比5:1的通孔填孔技术,没有空洞,铜厚不超过20Z
4:陶瓷激光加工工艺对电镀填孔影响5:表面处理方式对应封装方式技术要求